武汉设计双年展黑科技设计邀请展

Wuhan Design Biennial, Black Tech Design Invitational Exhibition

一、组织机构

1.主办单位：湖北省包装联合会设计委员会

2.支持单位：武汉设计产业促进办公室、武汉设计双年展组委会、楚天艺术集团、海峡两岸创客中心、九一创作协会

3.策展团队：凃志初、彭军、徐伟、周静、魏坤、关洪

二、邀请流程

截稿日期：2019年10月25日

展览日期：2019年11月1日

三、主题

1.自由主题

2.黑科技x节日；

3.黑科技x节气；

4.黑科技x军运会；

5.黑科技x创新应用。

四、作品类别

1、海报类

2、字体类

3、插画类

五、提交方式

1、邮件名称的格式为：参赛者姓名 + 作品名称 + 所在单位。

2、要求：60x90cm，300dpi，cmyk模式，存储格式为jpeg，动态作品为gif或mp4格式。

3、同时提交作者近照1张。100字以内设计说明，300字以内简介（见参赛表格）。

4、作品、近照及参赛表格发送到邮箱25934056@qq.com

六、细则

1.个人送交作品数量不限。

2.组委会拥有对所有作品的发表、出版、宣传、收藏、印刷等相关权利。

七、展览形式

1. 武汉设计双年展主场馆及南太子湖展区；

2.“湖北省包装联合会设计委员会”公众号。

八、参赛表格

武汉设计双年展——黑科技设计邀请展参赛表格

九、联系方式

湖北省包装联合会设计委员会秘书处

联系人：李薇

联系电话：027-85868989

传真：027-85868989

网址：http://ctb.hbeitc.gov.cn

E-mail：whgongyexiehui@163.com